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[關(guān)閉]臺式全譜光譜分析儀HX-750（CCD）型
一、概述：
南京華欣分析儀器制造有限公司生產(chǎn)的HX-750（CCD）型全譜直讀光譜儀，是高性能、流線(xiàn)型全新設計的臺式全譜直讀光譜儀。儀器采用國際標準設計、制造工藝技術(shù)和數字化技術(shù)；采用獨特的真空光室設計、全數字激發(fā)光源；采用的CCD檢測器，采用高速數據交換系統。廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬、汽車(chē)、造船、電力、航空等領(lǐng)域，能滿(mǎn)足廣大用戶(hù)各種分析要求。
二、主要技術(shù)參數：
分析基體：Fe、Cu、Al、Ni、Ti、Co、Zn、Sn、Mg、Pb等
光學(xué)結構：帕邢-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統
波長(cháng)范圍：130-800nm
焦 距：400mm
光柵刻線(xiàn)：3000條/mm
探測器：高性能CCD陣列
電 極：鎢材噴射電極
分析間隙：樣品臺分析間隙：3.4mm
光源類(lèi)型：全新可調節數字化光源，高能預燃技術(shù)（HEPS）
激發(fā)頻率：100-1000Hz
放電電流：400A
真空系統：真空軟件自動(dòng)控制、監測
檢測時(shí)間：一般25S左右
光室溫度：34℃±0.3℃
工作環(huán)境：電源：AC220V±10% 50Hz 溫度：10℃-30℃ 濕度：≤80%
工作氬氣：純度99.999% 進(jìn)口壓力0.5MPa 激發(fā)流量3.5L/min
三、主要特點(diǎn)：
1、采用高性能光學(xué)系統設計及采用高精度的光學(xué)元件，可精確測定非金屬元素C、P、S、N以及各種合金元素含量，測定結果準確，重現性及長(cháng)期穩定性佳。
2、獨特的真空光學(xué)室結構設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。將入射窗與真空室分離，使入射窗日常清洗維護方便快捷。
3、光學(xué)系統自動(dòng)進(jìn)行譜線(xiàn)掃描，自動(dòng)光路校準，確保譜線(xiàn)接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。
4、樣品激發(fā)臺采用散熱性能好的合金材料制成，堅固耐用。電極自吹掃功能的設計，為激發(fā)創(chuàng )造了良好的環(huán)境，也使激發(fā)臺清潔電極更加容易。開(kāi)放式激發(fā)臺和靈活的樣品夾設計，以滿(mǎn)足客戶(hù)現場(chǎng)的各種形狀大小的樣品分析。
5、光路設計采用羅欄園結構，CCD上下交替排列，保證接收全部的譜線(xiàn)。不增加硬件設施的情況下，即可實(shí)現多基體分析。相比光電倍增管（PMT）光譜儀，可大大降低客戶(hù)使用成本、拓展使用范圍。
6、采用國際先進(jìn)的噴射電極技術(shù)，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周?chē)鷷?huì )形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過(guò)程中激發(fā)點(diǎn)周?chē)粫?huì )與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度；配上獨特的激發(fā)臺及氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量。
7、儀器采用高性能CCD器件、高性能FPGA、DSP及ARM處理器，具有超高速數據采集分析功能，并能自動(dòng)實(shí)時(shí)監測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀況。
8、全數字化等離子激發(fā)光源，超穩定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。全數字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體能量超高分辨率和高穩定輸出。滿(mǎn)足各種不同材料的激發(fā)要求。
9、計算機和光譜分析儀之間使用以太網(wǎng)卡TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾、光纖老化等弊端。
10、專(zhuān)用的光譜操作軟件完全兼容于windows系統。同時(shí)可以根據客戶(hù)需求配備各種語(yǔ)言版本。軟件操作簡(jiǎn)單，即使沒(méi)有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員，只需經(jīng)過(guò)簡(jiǎn)單的知識培訓即可上手使用。
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